1 Stück Annealing Furnace Das Fraunhofer IAF plant die Anschaffung eines Hochtemperatur-Glühofens. Der Temperaturbereich für die thermische Bearbeitung soll von Raumtemperatur bis zu 1000 °C reichen. Das System soll in der Lage sein, 100- und 150-mm-Wafer zu bearbeiten. Die bei Atmosphärendruck verwendeten Prozessgase sind N2 und O2. Option 1: Contamination and particle prevention Option 2: Manual control of heating, cooling and mass flow controllers Option 3: Remote maintenance