← Zurueck zur Uebersicht

Reaktives Magnetron Co-Sputtersystem active

Veroeffentlicht
18.02.2026
Frist
19.03.2026 01:00
Laufzeit
11 Monate
Geschaetzter Wert
-
Land
DE
IT-Relevanz
★☆☆☆☆ (1/5)
Hardware-Relevanz
★☆☆☆☆ (1/5)
Gewinner
Unbekannt
Vertragstyp
Einzelvertrag
Region (NUTS)
München, Landkreis
CPV-Codes
Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Quelle
ted_europa | Originalquelle ↗
Notice ID
114366-2026

Beschreibung

Gegenstand des Auftrags ist Lieferung und Installation (inkl. Training) eines reaktiven Magnetron Co-Sputter-Systems zur Herstellung von Oxid-, Oxinitrid- und Nitrid-Dünnfilmen mit kontrollierten Zusammensetzungen.

Hersteller (0)

Keine Hersteller zugeordnet.

Notizen & Kommentare